index - Les productions scientifiques du groupe SCIPRA du laboratoire plasma et conversion d’énergie

 

 Bienvenue dans la collection HAL du groupe SCIPRA : Sciences et Ingénierie des Plasmas Réactifs et des Arcs

La démarche scientifique de notre équipe consiste à étudier l’ensemble de la chaîne d’un procédé plasma hors-équilibre depuis la source d’énergie jusqu’à la propriété finale du matériau élaboré/modifié en passant par la physico-chimie en phase plasma et l’interaction plasma-surface. Une spécificité importante et assez unique de l’équipe est d’exploiter un panel de réacteurs plasma couvrant un large champ d’exploration, de la basse pression (BP) (mTorr) jusqu’à la pression atmosphérique (PA) et des basses fréquences (quelques kHz) jusqu’aux microondes. Pour plus d'informations sur nos recherches

 

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Aerosol Kvaerner torch Thin SiO2 layers SAB Break- ers Infrared spectroscopy Pulsed Direct Liquid Injection KPFM Chemical analysis Atmospheric pressure plasma Silicon oxides Silice Silica Adsorption properties Optical emission spectroscopy Couches minces MHD Simulation Candida albicans Coatings Fluorescence PECVD Metal oxide Electric Discharge Power Supply Kelvin Probe Force Microscopy Raman spectroscopy Dust Red fluorescent proteins Plasma deposition Charge injection Silver nanoparticles AgNps Plasma processes Silver Stability Silicon oxynitride layers Electrical characteristics Aerosols Silicon nanoparticles Plasma Proteins Statistical analysis Silver nanoparticles Metal nanoparticles Silver vapors Dielectric barrier discharge Dusty plasma Pulsed direct liquid injection Ag nanoparticles HVDC Nanostructured dielectrics Nanocomposites Safer-by-design Electrostatic actuators Electric arcs Characterization Space charge mitigation AgNPs Photoluminescence emission Dielectric Silicon nitride MHD modeling Nanocomposite Plasmas SiO2 thin layers Adsorption Nanomaterials Thin films Laboratory astrophysics Physico-chemical characterization Nanoparticles Charge trapping Physico-chemical analysis Bolsig+ Silver nanoparticle SiO2 RF MEMS capacitive switches Plasma process Cytology Structural stabilities Thin SiOsub2/sub layers Thin film coating Pulsed gas injection Recombinant proteins Nanoparticules d'argent AFM Discharge in water Polyethylene Electrode erosion Microwave plasma Fn Time reversal Dielectric Barrier Discharge Space charge Dielectric recov- ery Nanotechnology DBD Dielectric materials DsRed Drops Dielectric charging BSA

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